과기부, 총 3차 걸쳐 내년까지 국가연구인프라 지정
소부장 안정적 연구 수행 지원

소재 부품 장비 관련 국가연구인프라 시설이 지정됐다. ETRI 디스플레이 패널기술 연구실과 화학연 불소화학 소재공정연구실, 기계연 플라즈마연구실 등이다.

과학기술정보통신부(장관 최기영)는 12개 국가연구실과 6개 국가연구시설 등 1차 국가연구인프라를 지정했다고 11일 밝혔다.

이번 지정은 지난 8월 발표한 '소재·부품·장비 연구개발 투자전략 및 혁신대책'의 후속조치다. 소부장 분야 대표적 연구실과 연구시설 역량을 국가차원에서 한데 묶어 핵심품목에 대한 안정적 연구 수행과 긴급상황 시의 신속한 대응 등을 목표로 하고 있다.

과기부가 지정한 12개 국가연구실과 6개 국가연구시설.<사진=과기부 제공>
과기부가 지정한 12개 국가연구실과 6개 국가연구시설.<사진=과기부 제공>
국가연구실은 재료연 ▲타이타늄 연구실▲금속분말 연구실과 ▲전기연 탄소나노소재 전극 연구실, 기계연 ▲로봇메카트로닉스 연구실 ▲에너지변환기계 연구실 ▲초정밀시스템 연구실 ▲플라즈마 연구실, ETRI ▲디스플레이 패널기술 연구실 ▲초고속 광통신부품 연구실, ▲표준연 반도체 측정장비 연구실, 화학연 ▲불소화학 소재공정 연구실 ▲석유화학 촉매 연구실이 지정됐다.

국가연구시설로는 ▲한국나노기술원 ▲나노종합기술원 ▲서울대학교 반도체공동연구소 ▲전자부품연구원 전북지역본부 나노기술집적센터 ▲포항공과대학교 나노융합기술원 ▲한국생산기술연구원 서남지역본부 나노기술집적센터가 지정됐다. 

과기부에 따르면 이번 지정은 국가과학기술연구회와 국가연구시설장비진흥센터, 내부위원회 등을 거쳐 지정됐다.  내년 말까지 3차례에 걸쳐 국가연구인프라를 최종 지정할 계획이다.

이번 1차 지정의 경우, 국가연구실은 즉시 운영이 가능한 정부출연연구기관 소속의 연구실을 대상으로 했다. 국가연구시설은 반도체·디스플레이 분야 긴급 공정지원이 가능한 나노팹시설을 대상으로 했다.

향후, 과기부는 소재·부품·장비 분야의 대학·전문연구소 등으로 국가연구실과 국가연구시설 지정 대상 범위를 확대하고, 국가연구협의체(N-TEAM) 또한 2차 지정부터 추진할 계획이다.

국가연구인프라는  ▲국가연구실(N-LAB)▲국가연구시설(N-Facility)▲국가연구협의체(N-TEAM)로 나뉜다.

국가인프라의 역할.<사진=과기부 제공>
국가인프라의 역할.<사진=과기부 제공>

과기부 관계자는 "내년 소부장 예산이 약 2배정도 늘어나는 만큼 예산적 지원보다 연구 운영의 어려움을 지원하고 연구자가 연구에 몰입할 수 있도록 꾸준히 소통할 계획"이라고 말했다.

최기영 장관은 "연구실 안전을 확보하고, 연구자가 연구에만 몰입할 수 있도록 연구환경을 지속적으로 개선해 나가겠다"고 말했다.

한편, 과기부는 11일 재료연에서 국가연구인프라 지정식을 개최했다.

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