삼성, 하이닉스 등 국내 반도체 업계를 비롯해 정부출연연구기관과 서울대 등 대학의 연구자와 관리자들이 당장은 아니지만 10년 후에도 반도체 산업 경쟁력을 확보하기 위해 필요한 연구와 기술을 고민하고 개발해 왔다.

'반도체공정진단 워크숍'이 올해 10회를 맞아 지난 16일 양재 AT센터에서 한국표준과학연구원(원장 직무대행 박상열) 주최로 개최됐다. 10회를 맞아 반도체공정진단 전반적인 내용의 주제발표가 이어졌다. 행사 시작 전부터 준비된 자리가 부족해, 일어서서 강연을 듣는 등 인산인해를 이뤘다.
  
이날 발표에서 기업들은 앞으로의 반도체시장 동향을, 연구소와 대학은 연구개발 중인 최신기술을 소개했다. 발표주제는 ▲플라즈마 진단 및 식각기술(방진영 삼성전자 책임연구원) ▲공전진단 기술개발을 위한 플랫폼 구축(강우석 기계연 책임연구원) ▲플라즈마 해석 및 공정 개발에 필요한 플라즈마 물성연구(송미영 국가핵융합연구소 팀장) ▲3D-VNAND NITRIDE 박막가상계측 PI-VM 모델 개발(김곤호 서울대 교수) ▲공정플라즈마 정밀측정을 위한 컷오프진단법과 레이져산란법 연구(이효창 표준연 박사) 등이다.
 
이날 발표에 나선 송미영 국가핵융합연구소 팀장은 핵융합연구소가 연구개발 중인 플라즈마 물성데이터 생산·검증·보급 및 국제화 등 연구내용과 상용화 사례를 공유했다.
 
강우석 기계연 책임연구원은 반도체 공정진단 기술개발을 위해 기계연이 진행 중인 연구와 활용사례를 공유했다. 강 책임연구원은 "반도체 디스플레이 내부는 사용하면 할수록 공정오염이 가속화돼 불량률이 증가하고 이것이 누적되면서 소자불량이 늘어난다"며 "장비 신뢰성 저하와 소자생산 악화문제를 풀기 위한 고민이 필요하다"고 강조했다.
 
1회 워크숍부터 10회까지 꾸준하게 워크숍에 참석한 기업 관계자는 "반도체공정진단의 개념이 모호했을 때부터, 산업체에서 원하는 스펙이 없었을 때부터 미래를 대비하기 위해 산학연이 함께 모여 미래 반도체기술에 대해 고민하기 시작한 자리"라고 이번 워크숍을 정의했다.

그는 "기존 엔지니어의 경험과 감으로는 도달하지 못하는 수준의 반도체 기술개발을 위해 10여 년간 산학연의 많은 노력이 있었다"라며 "공동과제를 통해 활용하고 있는 기술, 혹은 활용을 앞둔 기술이 많다. 앞으로도 반도체 산업 경쟁력 확보를 위해 활동할 것"이라고 말했다.

워크숍의 첫 운영단장으로 활동한 바 있는 신용현 국민의당 국회의원은 축사를 통해 "반도체 산학연 관계자가 한자리에 모여 필요한 기술과 보유기술을 서로 매칭해 구현 가능한 자리로 마련됐다"며 "단시간에 기술적으로 얻을 수 있는 정보는 한정적이지만 향후 연구개발에 필요한 네트워크 등을 만들 수 있을 것으로 기대된다. 국가경제가 어려운 가운데 주요사업인 반도체 제조업이 한층 더 도약할 기회가 되길 희망한다"고 말했다.

행사 주최자인 윤주영 표준연 진공기술센터장은 "지난 10년동안 반도체공정진단워크숍을 통해 국내 반도체 산학연 전문가들이 한자리에 모일 수 있었다. 앞으로도 행사를 지속적으로 운영해 중국 등에 위협받고있는 국내 반도체 산업 경쟁력 향상에 기여하겠다" 라고 말했다.